Sinan®Filter过滤芯防护方案
方案描述
半导体、LED芯片、微电子及磁盘驱动器等苛刻的制造过程中,流体纯度是必不可少的,如湿蚀刻和清洁、光刻和化学机械平坦化(CMP)。随着晶体管不断收缩,在纳米范围内捕获微小粒子变得越来越重要。
Sinan®Filter过滤芯微过滤解决方案直指制造过程关键,帮助芯片制造商滤除有害污物,提高加工效率及良品,减少总加工成本。采用Sinan®ePTFE膜为过滤介质,具有优越截留率和无与伦比的流量;梯度孔径结构设计,分级过滤,使得Sinan Filter过滤芯具有更高的纳污量和更长的寿命。适用于对性能、质量一致性、和产品清洁度要求苛刻,并可重复性的制造过程应用。
产品特点
1. 具有捕捉纳米范围内颗粒的能力,高效滤除有害物,提高加工良品;
2. 保留优越的流速,在不牺牲生产能力的情况下实现高工艺产量;
3. 梯度孔径结构设计,分级过滤,具有更高的纳污量和更长的寿命;
4. 耐极端温度和化学侵蚀,适用苛刻应用环境;
5. 表面过滤材料,具有良好的自洁性,反复清洗不脱落。
应用优势
1. 广泛的现场测试数据;
2. 自主研发的过滤介质,高一致性;
3. 不同过滤孔径选择,从30纳米(0.03微米)到10微米;
4. 定制应用所需的各种流速;
5. 提供亲水、疏水过滤介质选择;
6. 提供定制尺寸的膜盘。
应用领域
1.半导体
2.LED芯片
3.智能显示器等制造过程